磁控溅射技术镀膜论文发表

　　溅射镀膜是在真空室中，利用气体在低压环境中的放电现象，使其产生的正离子在电场的作用下加速轰击靶材表面，使溅射出来的原子或者分子沉积在基片上。相比较于传统的镀膜方式，磁控溅射镀膜可以用作靶材的材料很多，基本上所有的金属材料、合金材料、陶瓷材料上使用。那么关于磁控溅射技术镀膜论文该如何发表呢?有哪些刊物可以发表磁控溅射技术镀膜论文呢?
 

　　《热喷涂技术》办刊宗旨为：宣传国家关于热喷涂及相关领域的政策，交流热喷涂技术的科研成果、技术信息，为热喷涂技术的推广、科研、生产实践及提高热喷涂行业从业人员素质服务，促进我国热喷涂技术行业发展。读者对象：国内外从事热喷涂材料、设备、技术应用及相关领域的企事业单位，公司，研究院所，大学，图书馆等。

　　《现代制造工程》主要介绍北京地区、兄弟省市以及国外机械制造工艺方面的科研成果、先进经验，普及机械科学的基础理论知识，以机械加工工艺为报导重点。本刊重点报道传统制造技术的创新(技巧创新和决窍)和现代制造技术的新进展、研究与生产应用成果，注重实用性，推介先进性，力促创新性，以我国机械制造技术的理论创新发展和制造企业制造现代化为己任。

　　以上两本制造类期刊均可以投稿磁控溅射技术镀膜论文,其中收录的关于磁控溅射技术镀膜方面的论文有“脉冲偏压对直流磁控溅射制备CuNiIn薄膜过程中钛合金基体的影响”、“磁控溅射镀膜技术在铝合金制品装饰镀中的应用”等，更多磁控溅射技术镀膜类论文投稿可以咨询期刊vip网站在线客服。

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